A kutatás és fejlesztés központja az Intel Labs. Itt divíziókon - technológia és kutatás, architektúra, technológia, gyártás - belül folyik a kutatás és fejlesztés. Az integrált áramkörök következő generációinak gyártásához az Intel EUV (Extreme Ultraviolet) rajzoló berendezéseket használ. Az EUV rendszerek fejlesztésére egy konzorciumot hoztak létre az USA-ban, amelynek az Intel is tagja. A konzorcium az első EUV rajzoló berendezést 2001 elején mutatja be. Az Intel kutatói remélik, hogy az EUV technológiával a méreteket 30 nm-ig lehet csökkenteni. Az Intel az EUV berendezések és technológia fejlesztésére ebben évben 3 milliárd dollárt fordít, mivel ez a következő generációs rajzoló berendezések egyik jelöltje az elektronsugaras és röntgensugaras technológiák mellett.
Júliusban Japánban is alakult egy konzorcium az ASET (Association of Super- Advanced Electronic Technology = szuper fejlett elektronikus technológia szövetség). Az Intel támogatja a szövetség programját.
A chipgyártó óriás a 3 milliárd dollár egy részét a következő generációs gyártástechnológiák fejlesztésére fordítja. Ezek között megtalálhatók a 450 mm-es szilícium lemezek is, amelyek a 300 mm-eseket követik 2011-ben.