Az Intel azt tervezi, hogy a déli-izraeli Kirját Gat városban fogja gyártani legkorszerűbb, a 10 nanométeres csíkszélességű félvezető lapkáját. Cserébe az izraeli kormány a következő öt évben 300 millió dolláros támogatásban részesíti az Intelt, emellett a cégnek a következő tíz évben csak 5 százalékos vállalati adót kell fizetnie.

Az Intel 1974-ben nyitotta meg első létesítményét Izraelben. Jelenleg négy kutatási-fejlesztési központja és két gyára működik Kirját Gat városban, és összesen 9855 munkavállalót foglalkoztat. A 10 nanométeres gyártástechnológiával működő új üzem 2023-ra készül el, és további ezer embernek ad majd munkát, amivel az Intel Izrael legnagyobb munkaadójává lép elő.

Az utóbbi négy évtized alatt az Intel 10,8 milliárd dollárt fektetett be Izraelben, és 1,5 milliárd dollár támogatást kapott az izraeli kormánytól. Az amerikai vállalat már januárban közölte, hogy még az idén dönt a 10 nanométeres chipeket gyártó üzem helyszínéről. A pályázók egyike Izrael volt.