A három japán elektronikai cég a kooperációtól főként a fejlesztési folyamat hatékonyságának javulását és ütemének felgyorsulását várja. A gyártók szerint így az első 45 nanométeres eljárással készülő LSI lapkák már 2008-ban piacra kerülhetnek. Az új, a korábbi 90 nm-est felváltó 45 nm-es technológia révén alapvetően kisebb, energiatakarékosabb, olcsóbb és ugyanakkor hatékonyabb csipek készíthetők. A mostani bejelentés értelmében tulajdonképpen az NEC csatlakozik a Toshiba és a Sony által már 2004. februárban megkezdett munkához.

A technológiai váltás, illetve az ahhoz kapcsolódó háttérmunkák úgy tűnik, hogy meglehetősen felgyorsultak az utóbbi időben: az Intel alig egy hete jelentette be, hogy megalkotta a világ első 45 nm-es gyártási technológián alapuló mikrocsip-prototípusát.