30 nm-es csip-technológia az IBM-től
Milkovits Gábor, 2006. február 20. 22:22
Tovább folyik a verseny a nagy csipgyártók közt annak a címnek az
elnyeréséért, hogy ki tud több tranzisztort elhelyezni egy adott
szilíciumszeleten: most éppen az IBM rukkolt elő a maga 30 nm-es
technológiájával.
A bejelentésre kevesebb, mint egy hónappal azután került sor, hogy az Intel bejelentette az első 45 nm-es eljárással készült lapkát. Nehezen hihető, hogy technikailag ennél nagyobb precizitás érhető el az optikai litográfia területén, a kék óriás mérnökeinek azonban láthatóan nem szegték kedvét a műszaki akadályok. Az egyes szakemberek által javasolt röntgensugaras módszer helyett az IBM-nél egy különleges folyadékba merítéses metódussal érték el a beégetést végző lézersugarak lelassítását, ami lehetővé tette a még nagyobb pontosságot anélkül, hogy meg kellett volna változtatni a hagyományos gyártási technológiát.
Az új technológia azt jelenti, hogy belátható időn belül nem forog komoly veszélyben a számítástechnika alaptételének számító Moore törvény, amely az egységnyi szilíciumfelületen elhelyezett tranzisztorok számának megduplázódását írja elő legalább másfél évente. A sokmagos processzorok terjedésével együtt mindez azt a nézetet erősíti, amely szerint egy-két évtizeden át még leküzdhető lesz a túlmelegedési probléma úgy, hogy eközben egyre nagyobb teljesítményű és viszonylag olcsó processzor áll majd rendelkezésre.