30 nanométeres technológiával készült flash chipek a Toshibától

Kiss Ádám Zoltán, 2007. október 8. 22:25

A világ második legnagyobb flash-memória gyártója belátható időn belül megkezdi a rekordot jelentő 30 nanométeres technológia bevezetését az előállítás során.

A Toshiba jelenleg éppen a 43 nanométere technológia bevezetésén dolgozik, a Japán központi régiójában található Yokkaichi gyáregységben. A tervek szerint valószínűleg ugyanebben az üzemben vezetik majd be a 30 nanométeres technológiát 2009 végére. A lépés nagy jelentőségű a flash ipar számára, mivel ezzel a hasonló lépésre készülő rivális dél-koreai Samsung jelentős konkurenciát kap, és végül az egész iparág átállását siettetheti a Toshiba döntése. A nanométer a méter egymilliomod része , és az egyre újabb és újabb miniatürizálás több folyamatot is illusztrál. A chipek csíkszélességének csökkentése kisebb energia-felvételt jelent, és olcsóbb előállítási költségeket. A Toshiba szerint a 30 nanométeres technológia jelenlegi gyártási költségeik megfelezését jelenti. Ez természetesen fontos lépés az egyre terjedő flash alkalmazások számára, és végül alacsonyabb árakat jelent a felhasználók részére. Ám egyben mutatja a flash-szektorba vetett általános bizalmat is, mert az ilyen átállások hatalmas költségekkel járnak, tehát csak a változatlanul nagy volumenű, vagy folyamatosan bővülő  gyártásnál hozzák be a beléjük fektetett pénzt.

Kövess minket a Facebookon!

Cikkgyűjtő

További fontos híreink

Huszadik alkalommal adták át a Hégető Honorka-díjakat

2024. november 21. 16:58

Hosszabbít ’Az Év Honlapja’ pályázat!

2024. november 19. 09:54

Törj be a digitális élvonalba: Nevezz ’Az Év Honlapja’ pályázatra!

2024. november 14. 16:36

A virtuális valóság az egészségügyet is forradalmasíthatja

2024. november 12. 18:01