Az Intel már a következő 10 év technológiáján dolgozik

Széll Zoltán, 2000. augusztus 27. 18:51

Az Intel ebben az évben 4 milliárd dollárt fordít kutatásra és fejlesztésre. A kutatási témák között olyanok találhatók, mint a robotika és a számítógép-vízió, a méreteket a molekulák és az atomok szintjére tolják el (nano-technológia, bio-chipek).

A célok eléréséhez a méreteket folyamatosan csökkenteni kell. Ezért az Intel már 2001-ben megkezdi a 0,07 mikronos (70 nm) technológia kidolgozását, ezt követi 2003-ban a 0,05 mikronos (50 nm) és 2005-ben a 0,035 mikronos (35 nm) technológia.

A kutatás és fejlesztés központja az Intel Labs. Itt divíziókon - technológia és kutatás, architektúra, technológia, gyártás - belül folyik a kutatás és fejlesztés. Az integrált áramkörök következő generációinak gyártásához az Intel EUV (Extreme Ultraviolet) rajzoló berendezéseket használ. Az EUV rendszerek fejlesztésére egy konzorciumot hoztak létre az USA-ban, amelynek az Intel is tagja. A konzorcium az első EUV rajzoló berendezést 2001 elején mutatja be. Az Intel kutatói remélik, hogy az EUV technológiával a méreteket 30 nm-ig lehet csökkenteni. Az Intel az EUV berendezések és technológia fejlesztésére ebben évben 3 milliárd dollárt fordít, mivel ez a következő generációs rajzoló berendezések egyik jelöltje az elektronsugaras és röntgensugaras technológiák mellett.

Júliusban Japánban is alakult egy konzorcium az ASET (Association of Super- Advanced Electronic Technology = szuper fejlett elektronikus technológia szövetség). Az Intel támogatja a szövetség programját.

A chipgyártó óriás a 3 milliárd dollár egy részét a következő generációs gyártástechnológiák fejlesztésére fordítja. Ezek között megtalálhatók a 450 mm-es szilícium lemezek is, amelyek a 300 mm-eseket követik 2011-ben.